化學機械研磨后清洗技術簡介_百度文庫
深圳市博億化工機械有限公司成立于2004年,十余年的技術發展與創新,博億人始終致力于濕法分散、研磨技術開發、設備制造及整體解決方案的設計與實現,為廣大客戶提供了。
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芯片制造化學機械研磨廢水處理回用摘要:化學機械研磨廢水產生量大但總體污染物濃度不高,回用潛力巨大,其處理及回用技術是芯片制造企業的研究。文章。
化學機械研磨廢水處理及回用技術的研究進展-《環境科學與技術》
“楔形”TEM樣品的機械研磨制備技術張啟華,趙燕麗,高強,李明,牛崇實,簡維廷(中芯國際集成電路制造有限公司,上海201203)摘要:介紹了一種用機械。
楔形TEM樣品的機械研磨制備技術-豆丁網
本發明提供了一種化學機械研磨的方法,包括下列步驟:提供半導體襯底,所述半導體襯底上具有介質層,所述介質層內包含通孔和/或溝槽;在介質層上及通孔和/或溝槽的。
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英特爾半導體(大連)有限公司招聘化學機械研磨液技術員,發布時間:2010年04月09日,職位類別:全職,工作地區:大連,職位描述:化學機械研磨液技術員工作要求:?輔助工程師。
一種化學機械研磨的方法_百度搜索
2006年12月18日-近日,應用材料公司宣布為200mmCMP(化學機械研磨)系統推出創新的AppliedDuraPadCMP(化學機械研磨)拋光墊技術。DuraPad的使用壽命比現有的研磨墊少延長了。
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近日,應用材料公司宣布為200mmCMP(化學機械研磨)系統推出創新的AppliedDuraPadCMP(化學機械研磨)拋光墊技術。DuraPad的使用壽命比現有的研磨墊少延長了30%,有效地。
應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術
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應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術-研磨拋光,專業
銅互連和低K材料是半導體深亞微米工藝中涉及的兩個重要的技術,而這兩種新技術的發展也給傳統的化學機械研磨(CMP)工藝提出了挑戰。
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本實用新型涉及一種化學機械研磨設備,包括:研磨臺支架;少兩個研磨臺,由下上分層設置于所述研磨臺支架中,每一所述研磨臺上表面設置有研磨墊,下表面設置有支撐。
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2012年1月18日-什么是研磨加工?發布時間:2013-01-18來源:機械專家網利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒,通過研具與工件在一定壓力。
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啟隆自成立以來,致力于機械制造與表面處理之要求,以達成在杭州蕭山正式成立分公司,名稱為:“杭州啟隆研磨技術有限公司。
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2013年7月26日-該項目開發的納米級高效研磨加工技術在加工效率、加工成本、加工質量和加工精度上具有明顯的優勢,具有很好的應用前景。項目組研制出的采用本項新技術的。
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