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2013年4月26日-一、平面研磨機的工作原理:平面研磨機為精密研磨拋光設備,被磨、拋材料放于平整的研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉動,修正輪帶動工件自轉,重力加壓或其它方式。

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Q3.簡述CMP的工作原理?ANS:化學機械研磨是把芯片放在旋轉的研磨墊(pad)上,再加一定的壓力,用化學研磨液(slurry)來研磨的。Q4.為什麼要實現芯片的平坦化。

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